電化學工作站作為電化學研究的核心設備,其核心架構由硬件系統與軟件系統協同構成,測量原理則基于法拉第定律與電極過程動力學理論。
硬件架構以三電極體系為核心,包含工作電極(WE)、參比電極(RE)和對電極(CE)。工作電極是電化學反應的場所,材料選擇需滿足高導電性、化學惰性及表面均一性,如玻碳電極常用于催化研究,鉑電極適用于氧化還原反應。參比電極提供穩定電位基準,如飽和甘汞電極(SCE)或銀/氯化銀電極(Ag/AgCl),其電位漂移需控制在±0.1mV以內以確保測量精度。對電極則通過極化電流維持電解液電中性,通常采用鉑絲或石墨棒等惰性材料。
信號控制模塊是硬件系統的核心,由恒電位儀與恒電流儀組成。恒電位儀通過負反饋機制精確控制工作電極電位,實現±10V的寬范圍調節,電位分辨率達μV級;恒電流儀則通過調節對電極電流維持體系穩定,電流范圍覆蓋p至安培級,部分設備支持檢測。信號發生器可輸出直流或交流信號,支持循環伏安法(CV)的0.000001—5000V/s掃描速率,以及交流阻抗譜(EIS)的10μHz—10MHz頻率范圍。
數據采集系統采用高速ADC模塊,采樣速率可達納秒級,配合多級信號增益與iR降補償電路,可消除溶液電阻對測量的干擾。例如,在腐蝕研究中,通過EIS擬合Nyquist圖可精確獲取電荷轉移電阻(Rct),評估涂層防護效果。
測量原理基于法拉第定律,即電化學反應中通過的電量與反應物物質的量成正比。通過控制電位或電流,監測工作電極與對電極間的電流響應,可定量分析反應動力學參數。例如,在鋰離子電池研究中,CV掃描可揭示電極材料的氧化還原峰位置,判斷反應可逆性;EIS測試則通過等效電路模型解析界面阻抗,優化電解液配方。